Intel работает над преодолением ограничений современных техпроцессов

Компания Intel инвестировала средства в компанию Tela, занятую разработкой технологий, способных облегчить перевод производства микросхем на нормы 45-нм техпроцесса. В частности, специалисты Tela работают над обходом ограничений, имеющихся в традиционной литографии.

Литография является основным техпроцессом в производстве интегральных схем (ИС). Постоянная миниатюризация элементов ИС требует неуклонного сокращения длины волны излучения, использующегося для печати микросхем. В большинстве современных микросхем размеры элементов составляют 65 нм, но все большее число производителей переходят на 45-нанометровый процесс.

Предполагается, что переход на 45-нанометровый техпроцесс будет сопровождаться внедрением ряда новых методик производства. Речь идет о технологии иммерсионной литографии, диэлектриках со сверхнизкой диэлектрической проницаемостью, а также технологии "растяжения" транзисторов. В настоящее время при производстве процессоров применяется традиционная литография, которая, в силу ряда ограничений, препятствует внедрению новых техпроцессов с нормами менее 65 нанометров. Как ожидается, переход на иммерсионную литографию позволит решить данную проблему и ускорить выпуск чипов следующего поколения.

Стоит добавить, что Intel начала производство чипов по 45-нанометровой технологии в конце прошлого года. Ими стали новые процессоры линейки Penryn, предназначенные для использования в серверах и настольных компьютеров. На 2009 год запланировано начало внедрения 32-нанометровой технологии производства процессоров. Чипы, изготовленные по этой методике, будут насчитывать до 1,9 миллиарда транзисторов.

citcity.ru

публикации сходной тематики

Комментирование закрыто.

 

При наполнении сайта использована информация из открытых источников. Владелец сайта не несет ответственности за недостоверную и заведомо ложную информацию размещенную на страницах сайта. При использовании информации опубликованной на нашем сайте, ссылка обязательна.

Реклама на сайте: